原子层沉积系统设备

作者:院办公室 时间:2023-06-20 点击数:

设备名称:原子层沉积系统设备

型号:PALD-150D

产地类型:国产

主要技术参数

Power380 V AC, 60 Hz, three-phase, 6 kw

Size of the substrate6” wafer

Temperature of the substrateRT to 500°C

Source HeaterRT to 200℃

Deposition Rate1.2 Å /cycle at 200℃ and 0.2Torr (Al2O3)

Control routeLabview with Touch Screen

Source Bottle Number3

Base Vacuum< 5×10-3Torr

Pneumatic valveSwagelok Diaphragm Valves for ALD, Response time 5ms

Size(L×W×H)750mm×630mm×1234mm

仪器配置:CW-6200水冷机

用途:

1. 半导体行业及光伏等行业的半导体薄膜制备;

2. 物理、材料等领域的二维材料薄膜制备及粉体材料表面包覆。


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